РУС ENG
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Российская Академия Наук

Статья в рамках гранта РНФ вошла в топ 5% всех научных публикаций мира по рейтингу Altmetric

12 августа 2015 г.

Согласно сообщению, опубликованному в микроблоге @ChemicalScience Королевского химического общества Великобритании, научная статью сотрудников ИОХ РАН получила очень высокую оценку. Работа коллектива авторов под руководством член-корр. РАН В.П.Ананикова вошла в 5% всех научных публикаций мира по рейтингу Altmetric. (см. ссылку ЗДЕСЬ).

Примечательно, что статья была опубликована всего три месяца назад в мае 2015 г. Научная работа была выполнена в рамках проекта РНФ по исследованию применения графеновых материалов в химически реакциях.

Об этой работе сотрудников ИОХа был сделан обзор в журнале "Наука и  Жизнь", где отмечается:

 "Химики из Института органической химии им. Н.Д. Зелинского РАН  придумали способ просто и быстро найти дефекты в атомарной структуре графена. Определение дефектных центров на углеродной поверхности с  помощью разработанных палладиевых маркеров дает еще и уникальную возможность изучить реакционную способность графеновых слоев.

Исследователи установили, что на одном квадратном микрометре поверхности, а это примерно в тысячу раз меньше площади человеческого волоса, могут находиться более 2000 реакционных центров. При этом они расположены не хаотично, а со вполне упорядоченной структурой."